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        鎳鉻合金靶材電阻薄膜具有高電阻率、低電阻溫度系數(shù)、較高的靈敏系數(shù)而且對溫度依賴小等特點，由于鎳鉻合金電阻薄膜制備容易、工藝成熟、性能穩(wěn)定，因而得到廣泛應(yīng)用，主要用于制備混合集成電路中的精密電阻薄膜，其能滿足電阻應(yīng)變計敏感薄膜的性能要求，因此常用于制備薄膜電阻應(yīng)變計。在鍍膜行業(yè)中，Ni-Cr系二元合金靶材和薄膜被廣泛應(yīng)用于耐磨、減磨、耐熱和抗腐蝕等表面強化薄膜，以及低輻射玻璃、微電子、磁記錄、半導體和薄膜電阻等高端技術(shù)產(chǎn)業(yè)。。下圖是鎳鉻(80/20 Wt%) 合金濺射靶材的顯微金相檢測圖片,平均粒徑<100μm。             

只要您提供詳細的靶材信息，如純度，尺寸，公差要求，及其他技術(shù)要求，我們將盡快為您提供報價，并提供快的交期

      我們生產(chǎn)高純度的鎳鉻濺射靶材,它大的好處是在物理氣相沉積的過程中，能獲得具有優(yōu)異的導電率和顆粒小化的薄膜。此外，我司還可生產(chǎn)各種鎳合金靶材，如鎳鋁，鎳鈷，鎳銅，鎳釩，鎳鎢，鎳鉻硅等合金靶材，并可按照您對靶材成分，尺寸，晶粒度的不同要求來生產(chǎn)。如有任何產(chǎn)品需求，請與我們聯(lián)系。下面的表格是3N5的高純鈷鎳鉻(80/20 Wt%)合金濺射靶的成分分析證明書。采用的分析方法:1.使用ICP-OES 對金屬元素進行分析；2.使用LECO 進行氣體元素分析。