釕濺射靶材是由高純度釕金屬組成的灰色靶。熔點(diǎn)2334°
C ,密度12.37,熱膨脹 6.4 μm /(m·K)。釕濺射靶材有各種形式,純度,尺寸和價(jià)格。我們能夠根據(jù)您提供給我們的任何規(guī)格/圖紙?zhí)峁┒ㄖ频臑R射材料。
釕靶材制備工藝流程
備料 - 燒結(jié) - 退火 - 軋制 - 沖壓 - 金相檢測(cè) - 機(jī)加工 - 尺寸檢測(cè) - 清洗 - 檢驗(yàn) - 包裝
釕靶材制備方法
將粒度≤325目的釕粉冷壓成型,冷壓壓力為250~350MPa,得到釕坯;將所述釕坯進(jìn)行抽真空至0.008~0.12Pa后以10~20℃/min升溫至790~820℃,保溫30~50min后,再以5~10℃/min升溫至第一溫度加壓,加壓壓力為50~70MPa;繼續(xù)升溫至第二溫度,保溫120~180min;第一溫度為1000~1200℃,第二溫度為1200~1350℃;后以5~8℃/min降溫至1000~1100℃,保溫55~65min,得到釕濺射靶材。
釕靶材產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
耐化學(xué)腐蝕、耐摔性、超耐磨、耐高溫、防靜電、防火性
釕濺射靶材的應(yīng)用
釕濺射靶材用于在基板上生產(chǎn)純釕薄膜,其在微芯片中顯示出令人鼓舞的性能。
釕的其他應(yīng)用包括:
在電子工業(yè)中用于制造電觸點(diǎn)和片式電阻器
用作化學(xué)工業(yè)中電化學(xué)電池中氯生產(chǎn)的陽極。
用作鉑和鈀的硬化劑和多功能催化劑,用于從煉油廠和其他工業(yè)過程中去除H2S。