鉑金靶材(4N)純度99.99%以上,熔點(diǎn)可達(dá)1772度,沸點(diǎn)可達(dá)3827度,
鉑靶材制備工藝流程
備料 - 真空感應(yīng)熔煉 - 退火 - 軋制 - 沖壓 - 金相檢測(cè) - 機(jī)加工 - 尺寸檢測(cè) - 清洗 - 檢驗(yàn) - 包裝
鉑產(chǎn)品的幾種類(lèi)型
鉑顆粒純度99.99%,常規(guī)尺寸φ3*6mm;量大可定做,用于熱蒸鍍、電子束蒸鍍;
鉑靶材純度99.99%,常規(guī)尺寸:φ50*1mm;φ60*3mm;φ76.2*4mm等,尺寸可定做,用于磁控濺射鍍膜
電鏡鉑片,常規(guī)尺寸φ57*0.1mm;φ57*0.2mm;φ58*0.1mm;φ58*0.2mm,用于電鏡SEM設(shè)備
鉑箔片純度99.99%,常規(guī)尺寸100*100*0.2mm等,尺寸可定做
鉑濺射靶的應(yīng)用
高性能鉑濺射材料可用于薄膜涂層應(yīng)用,CD-ROM,裝飾,平板顯示器,功能涂層,以及其他光學(xué)信息存儲(chǔ)空間行業(yè),汽車(chē)玻璃和建筑玻璃等玻璃涂層行業(yè),光通信等。其突出的商業(yè)應(yīng)用是作為車(chē)輛中的催化轉(zhuǎn)化器。鉑在真空下蒸發(fā),用于制造半導(dǎo)體,燃料電池和電池。它也被用作光學(xué)涂層的一層。鉑金常見(jiàn)于珠寶和實(shí)驗(yàn)室儀器中。
鉑靶材的其他合金形式
鎳鉑,金鉑合金靶材等。