我們生產(chǎn)的鈦鋁合金濺射靶材具有高純度,重要的優(yōu)點是您的薄膜具有出色的導(dǎo)電性,并且在PVD過程中可以大限度地減少顆粒形成。下表是2N8高純度鈦鋁 (30/70 原子%)濺射靶的典型分析證明 。
分析方法:1。使用ICP-OES分析金屬元素。2.使用LECO分析氣體元素。
值得注意的是,我廠還專業(yè)生產(chǎn)各種鐵基合金濺射靶材,包括 Ti + Cr, Ti + Nb和 Ti + Si + Cu 合金濺射靶材,定制合金成分,尺寸靈活,公差更小,均勻微觀結(jié)構(gòu)。