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三氧化二鐵靶材是一種重要的材料，純度在 99.9% 以上，成分均勻，致密度高，具有良好的鐵磁性、可塑性和導(dǎo)熱性。采用粉末冶金法制備，廣泛應(yīng)用于電子、陶瓷、化工等領(lǐng)域。

鐵鈷硼靶材是一種重要的磁性材料，通常采用粉末冶金法制備，廣泛應(yīng)用于磁記錄、磁性傳感器、磁療設(shè)備等領(lǐng)域。

鐵鈷鉭合金靶材具有高效、耐用、可靠的特點(diǎn)，適用于在高技術(shù)領(lǐng)域中使用，如磁記錄、磁頭材料等。其制備方法通常包括粉末冶金法、真空熔煉法等。

硫化鐵（FeS2）作為一種重要的半導(dǎo)體材料，具有優(yōu)異的光電性能，因而在電池領(lǐng)域備受關(guān)注。制備方法主要有熔煉法，粉末冶金法等。

鐵鎳合金靶材是一種由鐵和鎳兩種金屬組成的靶材材料。通過熱鍛、冷軋、熱處理等工藝制備，這種合金靶材在電子、半導(dǎo)體、磁性材料等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

鐵鉿合金靶材是一種由鐵和鉿組成的合金材料。這種合金材料結(jié)合了鐵和鉿的優(yōu)點(diǎn)，具有高強(qiáng)度、高溫穩(wěn)定性、耐腐蝕性能等優(yōu)良特性。鐵鉿合金靶材的制備過程主要包括真空熔煉和粉末冶金法兩種。

鐵鉻合金靶材主要由鐵（Fe）和鉻（Cr）兩種元素組成，具有特定的鐵和鉻的比例。通常呈灰黑色，其純度可以達(dá)到3N（即99.9%）。制備通常采用真空感應(yīng)熔煉法和粉末冶金法。

鐵硅合金靶材因其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì)，在多個(gè)領(lǐng)域中有著廣泛的應(yīng)用，尤其是在半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、光學(xué)薄膜和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備等方面。鐵硅合金靶材的制備方法主要有鑄造法和粉末冶金法。

鐵錳合金靶材有較高的硬度和耐腐蝕性，制備工藝包括選擇原料、熔煉混合、熱處理、冷變形與退火以及機(jī)加工等步驟。主要用于半導(dǎo)體、光學(xué)、刀具和模具涂層等。

鐵鈷合金靶材是由高純的鈷和鐵原料經(jīng)過高真空熔煉得到的，鈷含量可以為 5%、10%、15%、20%等，鈷與鐵是無(wú)限固溶的，經(jīng)過精細(xì)的熱加工后，晶粒細(xì)小均勻，純度高，密度大。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空航天、太陽(yáng)能光伏企業(yè)、光學(xué)鍍膜。

氧化鎳靶材（NiO）是一種重要的材料，具有高純度和特定的晶體結(jié)構(gòu)，以及優(yōu)異的電學(xué)和磁學(xué)性質(zhì)。廣泛應(yīng)用于薄膜沉積技術(shù)中，特別是在半導(dǎo)體器件、光電設(shè)備及高性能薄膜的制造過程中。

碳化鎳靶材是一種用于鍍膜工藝的濺射靶材。它主要由鎳和碳組成，具備較高的硬度、熔點(diǎn)和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)。廣泛用在一些電子器件、光學(xué)涂層、耐磨涂層等領(lǐng)域。

鎳鉻鋁釔硅合金靶材是由鎳（Ni）、鉻（Cr）、鋁（Al）、釔（Y）和硅（Si）按一定比例合成的先進(jìn)材料。它還具備優(yōu)異的耐磨和耐蝕性能，使其在惡劣工作條件下表現(xiàn)出色。它是一種具有特殊性能和廣泛應(yīng)用的材料。

鎳鉻硅濺射靶材是一種包含Ni, Cr和Al的合金濺射材料。它具有較高的電阻率，良好的表面特性，耐高溫，并且在高溫下有較高的強(qiáng)度。它在冶金、家用電器、機(jī)械制造業(yè)等領(lǐng)域中作為發(fā)熱元件和電阻材料得到廣泛應(yīng)用。

鎳鈷合金靶材是一種由高純鎳和鈷經(jīng)過高真空熔煉制成的靶材，具有良好的硬度、強(qiáng)度、導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。同時(shí)，它還表現(xiàn)出較好的耐腐蝕性和抗氧化性。這種材料在電真空器件中有著廣泛應(yīng)用。