我們還提供其他定制形狀和尺寸的濺射靶材及報(bào)價(jià)
金濺射靶具有與貴金屬金（Au）相同的性質(zhì)。黃金是具有光澤的黃色光澤的更美麗的貴金屬之一。它的熔點(diǎn)為1,064°C，密度為19.3 g / cc，在1,132°C時(shí)的蒸氣壓為10 -4 Torr，理想的蒸發(fā)溫度約為1,400°C。它柔軟，致密，可延展，易延展，并且是熱和電的優(yōu)良導(dǎo)體。金濺射靶的沉積膜在半導(dǎo)體，傳感器，電池和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的生產(chǎn)中用作涂層。
金靶材制備工藝流程
備料 - 真空感應(yīng)熔煉 - 退火 - 軋制 - 沖壓 - 金相檢測(cè) - 機(jī)加工 - 尺寸檢測(cè) - 清洗 - 檢驗(yàn) - 包裝
金靶材的應(yīng)用
金濺射靶用于標(biāo)準(zhǔn)掃描電子顯微鏡（SEM）的涂層，它還被用來以薄薄的導(dǎo)電材料層覆蓋樣本。金需要防止在常規(guī)的SEM模式下用電子束使樣品帶電以及增加信噪比。其他：薄膜的物理氣相沉積（PVD），激光燒蝕沉積（PLD），用于半導(dǎo)體，顯示器，LED和光伏器件的磁控濺射。
金鍺、金錫合金靶材等。
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