鐵靶材，高純鐵是制備磁記錄介質(zhì)、磁記錄磁頭、光電器件和磁傳感器等元器件的重要材料，主要包括電磁純鐵和原料純鐵，電磁純鐵是功能性軟磁材料，要求電磁性能優(yōu)良，主要用于電器、電訊、儀表和國防簡短工業(yè)制作電磁元件、電磁鐵芯等；原料純鐵是一種要求純凈度較高的工業(yè)純金屬，是精密合金、非晶態(tài)合金（如SiFeB等）、硬磁材料、超低碳不銹鋼、高速鋼以及粉末冶金的主要原料。如果濺射靶材的晶粒大小均勻一致，用戶可以獲得良好的濺射速率和均勻鍍膜層，下圖是鐵濺射靶材的兩種典型的顯微金相檢測(cè)圖片，平均粒徑<100um。
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我們生產(chǎn)高純度的濺射靶材，它重要的好處是在物理氣相沉積的過程中，能獲得具有優(yōu)異的導(dǎo)電率和顆粒小化的薄膜。以下表格是4N高純鐵濺射靶的成分分析證明書。采用的分析方法：1. 使用ICP-OES對(duì)金屬元素進(jìn)行分析；2. 使用LECO進(jìn)行氣體元素分析。
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