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長沙鑫康新材料有限公司 新聞資訊 行業(yè)資訊 釩靶材工藝流程及應用介紹
新聞內容

釩靶材工藝流程及應用介紹

釩靶材

釩靶材與其源材料共享屬性。釩是一種銀灰色的金屬,密度為6.11g/cm3,熔點為1919±2℃,屬于高熔點稀有金屬之列.在集成電路制作中一般用純金作表面導電層,但金與硅晶圓容易生成ausi低熔點化合物,導致金與硅界面粘結不牢固,于是在金和硅晶圓的表面增加一粘結層,常用純鎳作粘結層,但鎳層和金導電層之間也會形成擴散,因此需要再有一阻擋層,來防止金導電層和鎳粘結層之間的擴散。阻擋層需要采用熔點高的金屬,還要承受較大的電流密度,高純金屬釩能滿足了這一要求。高純金屬釩還具有良好的可塑性,在常溫下可軋成片、箔和拉成絲。

釩靶材特征
釩靶材形狀:平面靶 旋轉靶 異型定制
釩靶材純度:2N、3N
釩靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供釩絲、釩片、釩棒、釩粒、鐵粉等

釩靶材制備工藝
1、將所需純度釩鑄錠依據目標尺寸,采用臥式鋸床進行切割處理,先在450-500℃下預熱,再進行鍛造,并控制鍛造的總變形率為70-80%;

2、將鍛造得到的釩鑄錠進行退火處理,退火的溫度為400-500℃,保溫時間為60-120min,然后采用空冷進行冷卻;

3、將退火得到的釩鑄錠進行軋制,并控制每道次的下壓量0.5-1mm,控制總變形量為70-80%,直至得到所需直徑和厚度的釩靶坯;

4、將軋制得到的釩靶坯進行再次退火處理,再次退火的溫度為450-550℃,保溫時間為90-150min,再次退火之后進行水冷,得到所需高純釩靶坯。

此制備得到的釩靶坯不僅內部結構均勻,還具有晶粒細小的優(yōu)點,下圖是釩濺射靶材的兩種典型的顯微金相檢測圖片,平均粒徑<100um。

釩靶材金相圖

釩靶材靶材應用
用于太陽能、平板顯示器、電子及半導體等領域,如集成電路、背板金屬化、光電子等應用。

釩濺射靶材

金屬釩其他應用
釩的其他主要用途是合金,尤其是鋼。生產的釩中有85%用于鋼,10%用于鈦合金,5%用于所有其他用途。重要的工業(yè)釩化合物五氧化二釩用作生產硫酸的催化劑。用于儲能的釩氧化還原電池可能是未來的重要應用。

釩靶材合金系列
除釩靶材外,我們還可以提供鎳釩合金、鈷釩合金、鈦鋁釩合金、鐵釩鍺合金、鈷鐵釩硅合金、五氧化二釩等濺射靶材。


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