鉬靶材制備方法及應用介紹

鉬靶材與其原材料具有相同的屬性。鉬是一種銀灰色金屬，它的熔點為2623°C，密度為10.2g/cm3。 真空環(huán)境或惰性氣體保護環(huán)境，純鉬較高耐高溫1200度，鉬合金較高耐高溫1700度。鉬的弱氧化從 300 °C (572 °F) 開始，它是商用金屬中熱膨脹系數(shù)低的金屬之一。鑫康生產(chǎn)的鉬靶材是具有高密度和小平均晶粒尺寸的高純度濺射靶材，用于PVD，CVD，APS和VPS鍍膜工藝。

鉬靶材特征
鉬靶材形狀：平面靶 旋轉(zhuǎn)靶 異型定制
鉬靶材純度：3N5
鉬靶材尺寸：按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供鉬絲、鉬片、鉬棒、鉬粒、鉬塊、鉬粉等

鉬靶材制備工藝
1、鉬粉純度大于等于99.95%。采用熱壓燒結(jié)工藝對鉬粉末進行致密化處理，將鉬粉末置于模具中；將模具放入熱壓燒結(jié)爐中后，將熱壓燒結(jié)爐抽真空；調(diào)節(jié)熱壓燒結(jié)爐溫度至1200～1500℃，壓強大于20MPa，并保溫保壓2～5h；形成第一鉬靶材坯料；
2、對第一鉬靶材坯料進行熱軋?zhí)幚恚瑢⒌谝汇f靶材坯料加熱至1200～1500℃，之后進行軋制處理，形成第二鉬靶材坯料；
3、熱軋?zhí)幚砗螅瑢Φ诙f靶材坯料進行退火處理，退火處理的方法為調(diào)節(jié)溫度為800～1200℃，保溫加熱第二鉬靶材坯料2～5h，形成鉬靶材。

該方法解決了鉬靶材雜質(zhì)含量高、織構(gòu)分布不均勻的問題,通過該方法制得的鉬靶材純度和密度更高、靶材織構(gòu)分布更均勻,能形成特定的結(jié)晶取向、鉬靶材的濺射性能更好。下圖是鉬濺射靶材的兩種典型的顯微金相檢測圖片，平均粒徑<100um。

鉬靶材應用
鉬濺射靶材可以在襯底上形成薄膜，廣泛應用于電子元器件和電子產(chǎn)品，集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件；也可應用于玻璃鍍膜域；還可以應用于耐磨材料、高溫腐蝕、裝飾用品等行業(yè)。

鉬的其它應用
鉬材料主要用在真空高溫行業(yè)，電子行業(yè)，藍寶石熱場及航空航天制造行業(yè)等，鉬材料經(jīng)過變形量達到60%以上的軋制加工后，鉬的密度基本上接近于理論密度，因此其具有高強度，內(nèi)部組織均勻和優(yōu)良的抗高溫蠕變性能，被廣泛應用于生產(chǎn)藍寶石晶體生長爐內(nèi)的反射屏，蓋板真空爐內(nèi)的反射屏，發(fā)熱帶，連接件，等離子鍍膜用的濺射靶材，耐高溫舟皿等制品。

鉬靶材合金類型

除鉬靶材外，我們還可以提供鉬鈦合金、鉬錸合金、鉬鈮合金、鉬銅合金、鉬鑭合金、鉬鉭合金等靶材。

關于鉬濺射靶材介紹，希望以上概述對您有所了解，了解材料不迷路，請收藏我們的網(wǎng)站鑫康新材料靶材生產(chǎn)廠家http://aa220.cn/。

[免責聲明]本站文章部分為原創(chuàng)，其余僅做網(wǎng)絡公開資料的翻譯、歸納和整理，不屬于商業(yè)用途，僅用于讀者信息分享，供讀者學習參考，不對文章內(nèi)容的真實性、合法性、準確性、有效性、完整性等提供保證及負責，且不對讀者提供任何投資及應用建議。本站尊重知識產(chǎn)權，因整理資料所需，文中引用部分有來源于第三方公開的數(shù)據(jù)、圖片等內(nèi)容的，如有版權的則其所屬的知識產(chǎn)權歸屬原作者，本站文章凡有引用的內(nèi)容均在文末標注了原文出處或者原作者，若版權所有者認為文章涉嫌侵權或其他問題，請聯(lián)系我方（聯(lián)系電話：0731-86393472）及時處理。本站提供技術方面的文章不用于商業(yè)僅供大家學習參考，力求數(shù)據(jù)嚴謹準確，但因受時間及人力限制，文章內(nèi)容難免有所紕漏，如有重大失誤失實，敬請不吝賜教批評指正。本站原創(chuàng)文章版權歸本網(wǎng)站所有，轉(zhuǎn)載請聯(lián)系本站，本站擁有對此聲明的終解釋權。