銪靶材是高純度金屬銪組成的濺射靶,通常形狀為平面靶,也可以根據(jù)需要進(jìn)行異型定制。熔點(diǎn)為822°C,密度為5.24 g/cm3。銪靶材可以被用來(lái)制備薄膜或涂層,這些薄膜或涂層可以是單一的銪,也可以是銪的化合物。
銪靶材特征
銪靶材形狀:平面靶、異型定制
銪靶材純度:3N
銪靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供金屬銪塊、銪粉、銪顆粒等
銪靶材制備工藝
原料準(zhǔn)備:準(zhǔn)備銪的高純金屬作為原料;
熔煉:將銪原料放入真空熔煉爐中,在高溫下進(jìn)行熔煉,使其形成均勻的液態(tài);
鑄造:將熔煉后的銪液態(tài)倒入模具中,進(jìn)行鑄造,形成靶材的形狀;
加工:對(duì)鑄造后的靶材進(jìn)行加工,如研磨、拋光等,以獲得所需的表面光潔度和尺寸精度;
清洗:對(duì)加工后的靶材進(jìn)行清洗,以去除表面的污垢和雜質(zhì);
包裝:將清洗后的靶材進(jìn)行包裝,以保護(hù)其表面不受污染;
上圖是銪靶材的材質(zhì)分析報(bào)告。
銪靶材應(yīng)用
顯示器:銪靶材用于制造有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器,OLED 顯示器具有高對(duì)比度、高亮度、快速響應(yīng)等優(yōu)點(diǎn),是目前受歡迎的顯示器之一;
太陽(yáng)能電池:銪靶材用于制造銅銦鎵硒(CIGS)太陽(yáng)能電池,CIGS 太陽(yáng)能電池具有高轉(zhuǎn)換效率、低成本等優(yōu)點(diǎn),是未來(lái)太陽(yáng)能電池的發(fā)展方向之一;
半導(dǎo)體:銪靶材用于制造半導(dǎo)體芯片,半導(dǎo)體芯片是電子產(chǎn)品的核心部件,銪靶材的質(zhì)量和性能對(duì)半導(dǎo)體芯片的質(zhì)量和性能有著重要的影響。
光學(xué)儀器:銪靶材用于制造光學(xué)儀器,如激光二極管、光學(xué)傳感器等,銪靶材的光學(xué)性能對(duì)光學(xué)儀器的性能有著重要的影響。
金屬銪其他應(yīng)用
熒光材料:金屬銪的熒光性質(zhì)非常突出,被廣泛應(yīng)用于熒光燈、LED 等照明設(shè)備中,以及生物熒光標(biāo)記、熒光傳感器等領(lǐng)域;
磁性材料:金屬銪具有較高的磁矩和磁各向異性,因此被用于制造磁性材料,如永磁體、磁記錄材料等;
催化劑:金屬銪可以作為催化劑用于許多化學(xué)反應(yīng),如氧化反應(yīng)、加氫反應(yīng)等;
光學(xué)材料:金屬銪的光學(xué)性質(zhì)也非常獨(dú)特,被用于制造光學(xué)材料,如激光材料、光學(xué)濾波器等。
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