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關于鏑靶材性能制備方法以及應用介紹

鏑靶材


鏑靶材是由鏑金屬制成的,它是一種銀白色的軟質金屬,熔點1412°C,沸點2562°C,密度8.55克/厘米3。鏑靶材在半導體工業(yè)中扮演著非常重要的角色,是半導體工藝中不可或缺的材料之一。


鏑靶材特征

鏑靶材形狀:平面靶、異型定制

鏑靶材純度:3N

鏑靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制

我們還可以提供金屬鏑塊、鏑方塊、鏑顆粒等


鏑平面靶材


鏑靶材制備工藝

將純鏑在高真空條件下加熱熔化,然后在真空條件下澆鑄,形成鑄坯;

鑄坯在真空條件下700-1380℃(凝固點以下)保溫一段時間,然后緩慢冷卻,獲得單一的六方結構相并且晶粒組織結構均勻一致的鑄坯,可盡量避免高溫體心立方相的殘留;

將鑄坯在真空條件并在25℃到350℃溫度區(qū)間內進行變形加工;

機加工:對變形加工的鏑靶坯再進行機加工,以達到所需的尺寸和形狀;

表面處理:對加工后的鏑靶材進行表面處理,如清洗、拋光等,以提高其表面質量。

以上方法僅供參考,不同的制備方法適用于不同的生產需求和生產條件,在使用這些方法時,需要注意安全操作,并遵守相關的環(huán)保和安全規(guī)定。


鏑靶材成分表

上圖是鏑靶材的材質分析報告。


鏑靶材應用

磁性材料:鏑靶材可以用于制備磁性薄膜和磁性器件,如磁記錄材料、磁性傳感器、磁性存儲器等;

耐磨涂層:利用鏑靶材的高硬度和耐磨性,可以制備高性能的耐磨涂層,應用于切削刀具、模具、軸承等;

耐腐蝕涂層:鏑靶材具有良好的化學穩(wěn)定性和耐腐蝕性,可以制備耐腐蝕涂層,應用于航空航天、化工設備、海洋工程等領域;

真空鍍膜:鏑靶材在真空鍍膜技術中具有廣泛的應用,可以用于制備光學薄膜、電子器件、太陽能電池等。


金屬鏑其他應用

核反應堆:鏑可以用于核反應堆的控制棒,通過吸收中子來控制反應堆的鏈式反應速度;

永磁材料:鏑是制造永磁體的重要材料之一,特別是在高性能永磁體中。它可以提高永磁體的矯頑力和磁能積,使其在電機、發(fā)電機、揚聲器等設備中得到應用;

激光技術:鏑的同位素可以用于制造激光材料,例如用于激光切割、激光焊接和激光醫(yī)療等領域;

照明和顯示:鏑可以用于制造熒光粉,用于白光 LED 照明和液晶顯示(LCD)背光源;

磁致冷:鏑可以用于磁致冷技術,利用其磁熱效應來實現冷卻。


鏑靶材系列產品

除鏑靶材外,我們還可以提供鐵酸鈰鏑、鋱鏑鐵合金、鏑銅鎵等濺射靶材。


感謝您閱讀關于鏑靶材性能制備方法以及應用介紹,希望大家能對鏑靶材有更好的了解。如果您想了解更多關于金屬科研材料的信息,請收藏我們的網站鑫康新材料靶材生產廠家http://aa220.cn/。


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