銅錳靶材形狀：平面靶、異型定制

銅錳靶材純度：3N

銅錳靶材尺寸：按圖紙加工或其他者定制

我們還可以提供銅錳合金顆粒、銅錳合金棒、銅錳合金板等。

銅錳合金靶材制備工藝

選擇原料：首先選擇高純度的錳和銅作為原料；

熔煉混合：將銅和錳按照一定的比例混合，在真空條件下熔化后進行精煉和澆鑄，冷卻后得到鑄錠；

熱處理：對鑄錠進行高溫鍛造開坯，然后進行低溫三向鍛造，充分破碎坯料組織。鍛后坯料在一定的溫度范圍內(nèi)進行再結(jié)晶熱處理，獲得細小的晶粒尺寸；

冷變形與退火：對坯料進行多次冷變形和回復退火，進一步細化晶粒，實現(xiàn)超細晶銅錳合金靶材的制備；

機加工：將經(jīng)過熱處理和冷變形退火后的板坯進行矯平，冷卻后，得到的板坯經(jīng)機加工，終得到銅錳合金靶材。

上圖是銅錳合金靶材的化學成分分析表

銅錳合金靶材應用

半導體器件：銅錳合金靶材在半導體器件制造中用于物理氣相沉積（PVD）濺射鍍膜技術(shù)，用于制作集成電路和微芯片。隨著集成電路向更小的制程方向發(fā)展，銅導線工藝因其高器件速度和導電性能而應用量增大，銅錳合金靶材需求有望持續(xù)增長。

光學薄膜：在光學領(lǐng)域，銅錳合金靶材用于制備具有高化學穩(wěn)定性和導電性的薄膜，這些薄膜可用于光學器件的制造。

太陽能電池：在太陽能電池領(lǐng)域，銅錳合金靶材用于PVD鍍膜工藝，用于制備薄膜太陽能電池中的導電層薄膜。

顯示技術(shù)：銅錳合金靶材在平板顯示行業(yè)中用于PVD鍍膜，用于制作顯示面板和觸控屏面板。

銅錳合金其他應用