鎳鉻硅合金靶材是一種由鎳(Ni)、鉻(Cr)和硅(Si)按一定比例合成的合金靶材。它具有良好的導(dǎo)電性、較高的硬度和耐磨性、較好的耐腐蝕性以及在高溫環(huán)境下的穩(wěn)定性等。主要用于制備各種功能薄膜,在半導(dǎo)體、顯示技術(shù)、光伏等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
鎳鉻硅合金靶材特征
鎳鉻硅合金靶材形狀:平面靶 異型定制
鎳鉻硅合金靶材純度:3N5
鎳鉻硅合金靶材尺寸:按圖紙加工或者定制
我們還可以提供鎳鉻硅合金顆粒、鎳鉻硅合金片,鎳鉻硅合金棒
鎳鉻硅合金靶材制備工藝
真空脫氣:使用高純度的鉻粉、鎳粉和硅粉作為原料,其中鎳粉和鉻粉的純度要求在99.9%以上,硅粉的純度要求在99.99%以上,并且氧含量需要控制在一定范圍內(nèi)。原料混合后,在真空條件下加熱至700℃,保持1小時(shí),以去除材料中的氣體。
階段升溫升壓:在真空脫氣之后,對(duì)混合物料進(jìn)行加壓,然后在不同的溫度階段逐步升溫,并在升溫過程中增加壓力,以達(dá)到均勻的溫度分布和壓實(shí)材料的目的。終加熱至1400℃,保持1小時(shí),并在整個(gè)過程中控制壓力,以達(dá)到所需的密度和性能。
保壓爐冷:在達(dá)到預(yù)定溫度和壓力后,保持這些條件一段時(shí)間以確保材料的均勻性和穩(wěn)定性。然后,在保持一定壓力的條件下,停止加熱,讓靶材隨爐冷卻至室溫。
熱鍛:冷卻后,還需要進(jìn)行熱鍛處理,以進(jìn)一步改善材料的機(jī)械性能和結(jié)構(gòu)均勻性。
加工:對(duì)熱處理后的鑄錠進(jìn)行機(jī)械加工,使其達(dá)到所需的形狀和尺寸。
上圖是鎳鉻硅合金靶材的成分分析表
鎳鉻硅合金靶材應(yīng)用
汽車鍍膜:鎳鉻合金靶材用于在鏡頭表面鍍上透明薄膜,減少光的反射,增加透光率,并抑低耀光,同時(shí)延遲鏡片老化、變色的時(shí)間。
Low-E玻璃:又稱低輻射玻璃,鎳鉻合金薄膜通常放在這種玻璃的功能性膜層的外面,起到耐蝕、抗氧化的作用,延長(zhǎng)膜層的使用壽命。
電阻薄膜:鎳鉻合金靶材用于制備電阻薄膜,具有電阻率高、電阻溫度系數(shù)低、靈敏系數(shù)高等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于混合集成電路中的精密電阻薄膜和薄膜電阻應(yīng)變計(jì)。
硬質(zhì)涂層:鎳鉻合金靶材通過物理氣相沉積技術(shù)沉積成薄膜,用于工具和零件的表面處理,提高其耐磨性和耐腐蝕性。
裝飾性涂層:用于珠寶、手表、手機(jī)等產(chǎn)品的表面處理,提供防護(hù)作用的同時(shí)增強(qiáng)美觀。
鎳鉻硅合金應(yīng)用
高溫應(yīng)用:鎳鉻硅合金因其耐高溫和抗氧化的特性,常用于制造高溫環(huán)境下工作的部件,如發(fā)動(dòng)機(jī)部件、熱交換器、加熱元件等。
耐腐蝕環(huán)境:這種合金在化學(xué)加工、海洋工程、石油和天然氣行業(yè)等腐蝕性環(huán)境中表現(xiàn)出良好的耐腐蝕性。
電熱元件:鎳鉻硅合金具有較高的電阻率和良好的電熱性能,適用于制造電熱絲、加熱器和電阻器。
航空航天:在航空航天領(lǐng)域,鎳鉻硅合金用于制造發(fā)動(dòng)機(jī)部件、渦輪葉片等,這些部件需要耐高溫和具備高強(qiáng)度。
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