物理氣相沉積 (PVD) 的常用方法之一是熱蒸發(fā)。這是薄膜沉積的一種形式，它是一種真空技術(shù)，用于將蒸發(fā)鍍膜材料應(yīng)用于各種物體的表面。涂層，也稱為薄膜，通常在埃到微米的厚度范圍內(nèi)，可以是單一材料，也可以是分層結(jié)構(gòu)中的多種材料。

熱蒸發(fā)加熱源材料的方法

燈絲蒸發(fā)的方法是簡單的電阻加熱元件或燈絲。這些電阻蒸發(fā)燈絲有許多不同的物理配置，包括許多被稱為“舟”的材料——基本上是合適的高溫金屬（例如鎢）的薄金屬片，帶有成型的凹痕或凹槽，材料放置在其中。燈絲電源提供低電壓的安全性，需要非常高的電流，通常是幾百安培。

熱蒸發(fā)工藝

我們還提供殘余氣體分析儀 (RGA) 等附件以及其他自定義功能和自定義自動化功能，以幫助您完善熱蒸發(fā)技術(shù)和方法。低溫泵是用于蒸發(fā)的流行的高真空泵類型，但如果需要，也可以使用其他選項。無論選擇哪種選項，薄膜蒸發(fā)系統(tǒng)都可以提供相對較高的沉積速率、實(shí)時速率和厚度控制以及（具有合適的物理配置）良好的蒸發(fā)流方向控制，用于提升處理等目的，以實(shí)現(xiàn)直接圖案涂層。如果您對蒸發(fā)材料或者蒸發(fā)鍍膜有疑問，請向我們聯(lián)系。

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